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伯东KRI考夫曼离子源KDC 160辅助镀制 HfO2 薄膜

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价格要求:
包装要求:
所在地: 广东深圳市
有效期至: 长期有效
最后更新: 2021-02-05 10:40
浏览次数: 1
报价
 
公司基本资料信息
详细说明
   传统直接蒸发 HfO2块材料, 容易产生节瘤缺陷, 吸收很大, 限制了薄膜的激光损伤阈值, 因此, 为了获取高质量的 HfO薄膜, 某机构采用 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 辅助镀制 HfO薄膜.

 

客户的样品基底材料为 K9 玻璃, 靶材为 HfO2块材料, 运行的离子源偏压为 90V.

 

KRI 考夫曼离子源 KDC 160

 

伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 技术参数:
portant;">

 离子源型号

portant;">

 离子源 KDC 160 

portant;">

Discharge

portant;">

DC 热离子

portant;">

离子束流

portant;">

>650 mA

portant;">

离子动能

portant;">

100-1200 V

portant;">

栅极直径

portant;">

16 cm Φ

portant;">

离子束

portant;">

聚焦, 平行, 散射

portant;">

流量

portant;">

2-30 sccm

portant;">

通气

portant;">

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

portant;">

典型压力

portant;">

< 0.5m Torr

portant;">

长度

portant;">

25.2 cm

portant;">

直径

portant;">

23.2 cm

portant;">

中和器

portant;">

灯丝

* 可选: 可调角度的支架

 

应用结果:
通过使用伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 在偏压为 90V 时, 制造得到的HfO2 薄膜晶粒减小, 膜结构更均匀, 缓解了激光能量的局部聚焦, 因此具有较高的损伤阈值.

 

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

 

 

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

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